Metal Titanium Sputtering Alvo

O titânio possui boa resistência e adesão à corrosão, portanto, o alvo de pulverização de titânio de metal é frequentemente usado para a deposição de filmes de titânio puro ou deposição de pulverização reativa do filme de estanho, usado principalmente como uma barreira de difusão e a anti-fleta e interconextina.

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Metal Titanium Sputtering Alvo

Nos últimos anos, com o rápido desenvolvimento do circuito integrado do meu país, exibição de painel plano, energia solar e outras indústrias, a demanda por alvos metálicos usados no processo de pulverização aumentou rapidamente, e o alvo de pulverização de titânio de metal é um filme funcional muito importante no campo do material de informação eletrônica.

O alvo de pulverização de titânio de metal fornecido por nossa empresa tem alta pureza, entre os quais 99,95%, 99,99% e 99,995% de alvos de alta pureza podem ser produzidos e também passaram inspeções estritas de qualidade, para que você possa solicitar nossos produtos com confiança.

Especificação do alvo de pulverização de titânio de metal

Nota	Grau 1-4
Técnica	Sinterização, forjamento, recozimento, rolamento, derretimento a vácuo, usinagem
Pureza	99.9%-99.995%
Diâmetro	Personalizado
Grossura	Personalizado
Tamanho	Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm)
Tamanho	Tubo (alvo rotório, OD: 20mm -160 mm, espessura: 2-20 mm)
Densidade	4.54g\/cm3
Superfície	Polimento, brilhante, limpeza química, óxido preto, etc.
Forma	Disco, placa, retangular, quadrado
Padrão	ASTM B385