Alvos de pulverização catódica de cerâmica

• Alvo de pulverização catódica 4N ZrO2 com placa traseira ...

  Nossos alvos de pulverização catódica de dióxido de zircônio com placas de apoio são fabricados com material de dióxido de zircônio de alta-pureza, firmemente ligado a uma placa de apoio de metal;...

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• Alvo de pulverização catódica ZrC com placa traseira de Cu

  Nossos alvos de pulverização catódica de carboneto de zircônio (ZrC) com placas de suporte de cobre apresentam uma ligação robusta entre o material alvo de ZrC de alta{0}}pureza e o suporte de...

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• Alvo de pulverização catódica de ZrC dopado com Ta 5at%

  A dopagem precisa de carboneto de zircônio com uma proporção de 5 por cento atômico de tântalo aumenta significativamente a resistência a altas-temperaturas, resistência ao choque térmico e...

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• Alvo de pulverização catódica 4N IGZO

  Nossos alvos de pulverização catódica 4N IGZO oferecem desempenho de pulverização catódica mais estável e eficiente. Especializados para aplicações de exibição e semicondutores de última geração,...

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• Alvo 4N HfO2 com placa traseira de Cu

  O alvo de pulverização catódica HfO₂ 4N com suporte de cobre utiliza material de óxido de háfnio com pureza de 99,99%. Integrado com um suporte de cobre, oferece excelente condutividade térmica e...

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• 4N HfO2 dopado com alvo de 2% de Ti

  O alvo de pulverização catódica de HfO₂ dopado com 2% de Ti-é fabricado usando um substrato de óxido de háfnio de alta-pureza, dopado precisamente com 2% de titânio. Caracterizado por sua...

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• alvo de pulverização catódica de 4N HfO2

  Alvo de pulverização catódica de dióxido de háfnio de alta-pureza 4N (99,99% de pureza) — adequado para aplicações em revestimentos ópticos, semicondutores e eletrônicos de precisão. Apresenta...

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• Alvo de pulverização catódica B4C

  Utilizando matérias-primas de carboneto de boro de alta-pureza, este produto apresenta dureza excepcional e estabilidade térmica robusta, tornando-o ideal para aplicações na fabricação de...

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• Partículas HfC personalizadas

  Descrição de partículas de HfC personalizadas As partículas de HfC são normalmente sintetizadas pela reação de dióxido de háfnio (HfO₂) com carbono em altas temperaturas (1900–2300 graus) em uma...

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• Alvo de pulverização catódica de óxido de estanho (SnO2)

  O alvo de óxido de estanho (SnO2) é um importante material inorgânico não metálico. Devido às suas propriedades físicas e químicas únicas, ele desempenha um papel importante em muitos campos de...

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• Alvo de pulverização catódica de óxido de tântalo (Ta2O5)

  O Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo pode ser usado em semicondutores, deposição química de vapor (CVD), exibição de deposição física de vapor (PVD) e aplicações ópticas. Somos um fornecedor...

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• Alvo de pulverização catódica de óxido de titânio (TiO2)

  O dióxido de titânio (TiO2) é o pigmento branco mais amplamente utilizado, por exemplo em tintas. Ele tem alto brilho e um índice de refração muito alto (2,609 para rutilo).

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