Alvos de pulverização catódica de cerâmica
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![Alvo de pulverização catódica de óxido de estanho (SnO2)]()
Alvo de pulverização catódica de óxido de estanho (SnO2)O alvo de óxido de estanho (SnO2) é um importante material inorgânico não metálico. Devido às suas propriedades físicas e químicas únicas, ele desempenha um papel importante em muitos campos de...Mais -
![Alvo de pulverização catódica de óxido de tântalo (Ta2O5)]()
Alvo de pulverização catódica de óxido de tântalo (Ta2O5)O Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo pode ser usado em semicondutores, deposição química de vapor (CVD), exibição de deposição física de vapor (PVD) e aplicações ópticas. Somos um fornecedor...Mais -
![Alvo de pulverização catódica de óxido de titânio (TiO2)]()
Alvo de pulverização catódica de óxido de titânio (TiO2)O dióxido de titânio (TiO2) é o pigmento branco mais amplamente utilizado, por exemplo em tintas. Ele tem alto brilho e um índice de refração muito alto (2,609 para rutilo).Mais -
![Alvo de pulverização catódica de óxido de zinco (ZnO)]()
Alvo de pulverização catódica de óxido de zinco (ZnO)Alvo de Sputtering de Óxido de Zinco (ZnO) usado para Deposição Física de Vapor de Sputtering de Magnetron. Vários diâmetros, espessuras e purezas disponíveis para atender a todos os principais...Mais -
![Alvo de pulverização catódica de fluoreto de magnésio (MgF2)]()
Alvo de pulverização catódica de fluoreto de magnésio (MgF2)O fluoreto de magnésio é um sal cristalino branco e é transparente em uma ampla faixa de comprimentos de onda, com usos comerciais em óptica que também são usados em telescópios espaciais. Ele...Mais -
![Alvo de pulverização catódica de óxido de cobalto e lítio (LiCoO2)]()
Alvo de pulverização catódica de óxido de cobalto e lítio...O óxido de lítio-cobalto é uma estrutura em camadas, fornecendo um túnel bidimensional para migração de íons de lítio. O alvo de pulverização catódica LiCoO2 é um ótimo material para fazer...Mais -
![Alvo de pulverização catódica de óxido de molibdênio (MoO3)]()
Alvo de pulverização catódica de óxido de molibdênio (MoO3)O Molybdenum Oxide Sputtering Target pode ser usado em semicondutores, deposição química de vapor (CVD), display de deposição física de vapor (PVD) e aplicações ópticas. Somos um fornecedor de...Mais -
![Alvo de pulverização catódica de óxido de magnésio (MgO)]()
Alvo de pulverização catódica de óxido de magnésio (MgO)O óxido de magnésio em alvos de pulverização catódica é refletido principalmente na formação de filmes de alta velocidade, aplicação em indústrias de microeletrônica e fotovoltaica, processos de...Mais -
![Alvo de pulverização catódica de dissulfeto de molibdênio (MoS2)]()
Alvo de pulverização catódica de dissulfeto de molibdênio...MoSi2 é uma estrutura tetragonal. É uma fase intermediária com o maior teor de silício no sistema de liga binária Mo-Si. É um composto intermetálico Dalton com composição fixa, cinza e brilho...Mais -
![Alvo de pulverização catódica de óxido de nióbio (Nb2O5)]()
Alvo de pulverização catódica de óxido de nióbio (Nb2O5)Nossos alvos de óxido de nióbio são produzidos usando processos avançados de prensagem a quente a vácuo, prensagem isostática a quente, sinterização por prensagem a frio e pulverização térmica....Mais -
![Alvo de pulverização catódica de óxido de níquel (NiO)]()
Alvo de pulverização catódica de óxido de níquel (NiO)NiO target é um material usado em tecnologias de crescimento de filmes finos, como deposição física de vapor (PVD) e deposição química de vapor (CVD). Essas tecnologias desempenham um papel...Mais -
![Alvo de pulverização catódica de carboneto de silício (SiC)]()
Alvo de pulverização catódica de carboneto de silício (SiC)Esta seção discute as características básicas dos alvos de carboneto de silício em detalhes, desde suas propriedades químicas e físicas, métodos de preparação, até uma análise abrangente dos...Mais
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