Material de revestimento PVD

• Alvo de pulverização catódica 4N ZrO2 com placa traseira ...

  Nossos alvos de pulverização catódica de dióxido de zircônio com placas de apoio são fabricados com material de dióxido de zircônio de alta-pureza, firmemente ligado a uma placa de apoio de metal;...

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• Alvo de pulverização catódica ZrC com placa traseira de Cu

  Nossos alvos de pulverização catódica de carboneto de zircônio (ZrC) com placas de suporte de cobre apresentam uma ligação robusta entre o material alvo de ZrC de alta{0}}pureza e o suporte de...

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• Alvo de pulverização catódica de ZrC dopado com Ta 5at%

  A dopagem precisa de carboneto de zircônio com uma proporção de 5 por cento atômico de tântalo aumenta significativamente a resistência a altas-temperaturas, resistência ao choque térmico e...

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• Alvo de pulverização catódica 4N IGZO

  Nossos alvos de pulverização catódica 4N IGZO oferecem desempenho de pulverização catódica mais estável e eficiente. Especializados para aplicações de exibição e semicondutores de última geração,...

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• Alvo 4N HfO2 com placa traseira de Cu

  O alvo de pulverização catódica HfO₂ 4N com suporte de cobre utiliza material de óxido de háfnio com pureza de 99,99%. Integrado com um suporte de cobre, oferece excelente condutividade térmica e...

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• 4N HfO2 dopado com alvo de 2% de Ti

  O alvo de pulverização catódica de HfO₂ dopado com 2% de Ti-é fabricado usando um substrato de óxido de háfnio de alta-pureza, dopado precisamente com 2% de titânio. Caracterizado por sua...

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• alvo de pulverização catódica de 4N HfO2

  Alvo de pulverização catódica de dióxido de háfnio de alta-pureza 4N (99,99% de pureza) — adequado para aplicações em revestimentos ópticos, semicondutores e eletrônicos de precisão. Apresenta...

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• Alvo de pulverização catódica de carbono 4N personalizável

  Nossos alvos de pulverização catódica de carbono 4N de alta-pureza são fabricados com material de carbono 99,99% puro, apresentando baixos níveis de impureza e tornando-os ideais para aplicações...

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• Alvo de pulverização catódica B4C

  Utilizando matérias-primas de carboneto de boro de alta-pureza, este produto apresenta dureza excepcional e estabilidade térmica robusta, tornando-o ideal para aplicações na fabricação de...

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• Alvos personalizados de pulverização catódica de boro

  Fornecemos alvos de boro densos e de alta-pureza, perfeitamente adequados para processos de semicondutores e revestimentos. Apoiamos a fabricação personalizada com base em desenhos técnicos,...

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• Alvo redondo de tungstênio 3N5 personalizado

  Oferecemos alvos circulares de tungstênio-personalizados com pureza 3N5 (99,95%). Fabricados em metalurgia do pó, apresentam microestrutura uniforme, alta densidade, isentos de porosidade e...

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• Alvo de pulverização catódica Hf de alta pureza personali...

  Oferecemos alvos de pulverização catódica de háfnio de alta pureza-feitos sob medida-com pureza superior a 99,9%, apresentando densidade uniforme e microestrutura fina. Projetados especificamente...

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