Descrição dos produtos
O Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo pode ser usado em semicondutores, deposição química de vapor (CVD), exibição de deposição física de vapor (PVD) e aplicações ópticas. Somos um fornecedor de Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo de alta qualidade a preços competitivos.
Na fabricação de circuitos integrados, alvos de pentóxido de tântalo são frequentemente usados para preparar a camada dielétrica de capacitores. Como o pentóxido de tântalo tem boas propriedades dielétricas e alto índice de refração, ele pode fornecer capacitância estável e alta velocidade de transmissão de sinal em capacitores. Além disso, o pentóxido de tântalo também pode ser usado para preparar filmes ópticos, como lentes ópticas e filtros. Seu alto índice de refração e transparência lhe dão vantagens únicas em dispositivos ópticos.
Alvos de pentóxido de tântalo também são usados no campo de energia. Devido à sua boa estabilidade química e alto ponto de fusão, o pentóxido de tântalo pode ser usado como um componente-chave de baterias de alta temperatura e dispositivos de armazenamento de energia. Ele tem excelente condutividade elétrica e baixa mobilidade de elétrons em ambientes de alta temperatura, portanto, pode fornecer conversão de energia eficiente e desempenho de armazenamento. A sinterização de alvos de pentóxido de tântalo é uma etapa importante na preparação de materiais cerâmicos funcionais de alto desempenho.
Ao controlar a temperatura e o tempo de sinterização, um alvo com microestrutura uniforme e estrutura cristalina densa pode ser obtido. Alvos de pentóxido de tântalo têm amplas perspectivas de aplicação nos campos de eletrônica, óptica e energia, e fornecerão suporte e promoção importantes para o desenvolvimento de campos relacionados.
Formulários
O alvo de pulverização catódica de óxido de tântalo é usado principalmente na indústria eletrônica e de informação, no campo de revestimento de vidro, em materiais resistentes ao desgaste, na resistência à corrosão em alta temperatura, em produtos decorativos de alta qualidade e em outras indústrias.
|
Material |
Alvo Ta2O5 |
|
Pureza |
99.99% |
|
Tamanho |
Diâmetro 1","2", 3", 4" ou personalizado |
|
Densidade relativa |
acima de 80% |
|
Forma |
Redondo, retangular, grânulos ou personalizado |
|
Tecnologia |
Sinstering |
|
Colagem |
Índio, Elastômero |
|
Superfície |
Chão |
Tag: alvo de pulverização catódica de óxido de tântalo (ta2o5), fornecedores de alvos de pulverização catódica de óxido de tântalo (ta2o5) da China, fábrica


