Alvo de pulverização catódica de óxido de tântalo (Ta2O5)
Alvo de pulverização catódica de óxido de tântalo (Ta2O5)

Alvo de pulverização catódica de óxido de tântalo (Ta2O5)

O Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo pode ser usado em semicondutores, deposição química de vapor (CVD), exibição de deposição física de vapor (PVD) e aplicações ópticas. Somos um fornecedor de Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo de alta qualidade a preços competitivos.
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Descrição dos produtos

 

O Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo pode ser usado em semicondutores, deposição química de vapor (CVD), exibição de deposição física de vapor (PVD) e aplicações ópticas. Somos um fornecedor de Alvo de Sputtering de Óxido de Tântalo de alta qualidade a preços competitivos.

 

Na fabricação de circuitos integrados, alvos de pentóxido de tântalo são frequentemente usados ​​para preparar a camada dielétrica de capacitores. Como o pentóxido de tântalo tem boas propriedades dielétricas e alto índice de refração, ele pode fornecer capacitância estável e alta velocidade de transmissão de sinal em capacitores. Além disso, o pentóxido de tântalo também pode ser usado para preparar filmes ópticos, como lentes ópticas e filtros. Seu alto índice de refração e transparência lhe dão vantagens únicas em dispositivos ópticos.

 

Alvos de pentóxido de tântalo também são usados ​​no campo de energia. Devido à sua boa estabilidade química e alto ponto de fusão, o pentóxido de tântalo pode ser usado como um componente-chave de baterias de alta temperatura e dispositivos de armazenamento de energia. Ele tem excelente condutividade elétrica e baixa mobilidade de elétrons em ambientes de alta temperatura, portanto, pode fornecer conversão de energia eficiente e desempenho de armazenamento. A sinterização de alvos de pentóxido de tântalo é uma etapa importante na preparação de materiais cerâmicos funcionais de alto desempenho.

 

Ao controlar a temperatura e o tempo de sinterização, um alvo com microestrutura uniforme e estrutura cristalina densa pode ser obtido. Alvos de pentóxido de tântalo têm amplas perspectivas de aplicação nos campos de eletrônica, óptica e energia, e fornecerão suporte e promoção importantes para o desenvolvimento de campos relacionados.

 

Formulários

 

O alvo de pulverização catódica de óxido de tântalo é usado principalmente na indústria eletrônica e de informação, no campo de revestimento de vidro, em materiais resistentes ao desgaste, na resistência à corrosão em alta temperatura, em produtos decorativos de alta qualidade e em outras indústrias.

 

Material

Alvo Ta2O5

Pureza

99.99%

Tamanho

Diâmetro 1","2", 3", 4" ou personalizado

Densidade relativa

acima de 80%

Forma

Redondo, retangular, grânulos ou personalizado

Tecnologia

Sinstering

Colagem

Índio, Elastômero

Superfície

Chão

 

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