Descrição do alvo de pulverização catódica B4C
Os alvos de pulverização catódica de carboneto de boro (B4C) são alvos cerâmicos de alto-desempenho utilizados principalmente em processos de deposição física de vapor (PVD)-especificamente na pulverização catódica de magnetron-para depositar filmes finos de carboneto de boro nas superfícies do substrato. Distinguidos por suas propriedades físico-químicas excepcionais, esses filmes finos encontram aplicação significativa em vários setores de alta-tecnologia. Os alvos de carboneto de boro são normalmente produzidos em formato de disco circular, com diâmetros comuns incluindo 50,8 mm e 76,2 mm, e espessuras disponíveis variando de 3 mm a 6 mm. Os níveis de pureza abrangem um espectro de 99% até graus 4N de alta-pureza, atendendo aos diversos requisitos de pesquisas científicas e aplicações industriais. Além disso, serviços como ligação a placas de suporte de cobre estão disponíveis para facilitar a instalação e o uso.
Características do alvo de pulverização catódica B4C
Dureza excepcional: Sua dureza perde apenas para a do diamante e do nitreto cúbico de boro, o que lhe valeu o apelido de “Diamante Negro”.
Excelente resistência-a altas temperaturas: com ponto de fusão atingindo aproximadamente 2.350 graus, mantém desempenho estável em ambientes-de alta temperatura.
Boa estabilidade química: É quimicamente inerte à maioria dos ácidos, mas se dissolve em álcalis fundidos.
Seção transversal-de baixa densidade e alta absorção de nêutrons: com densidade de aproximadamente 2,52 g/cm³, absorve efetivamente nêutrons sem gerar isótopos radioativos, o que o torna de importância significativa na indústria nuclear.
Requisitos de alta pureza: para uso na preparação de materiais alvo de alto-desempenho, o pó de carboneto de boro normalmente requer um nível de pureza superior a 99%; esse controle rigoroso sobre impurezas-como oxigênio, ferro e silício-é essencial para garantir o desempenho do produto final.
Aplicações do alvo de pulverização catódica B4C
Revestimentos-resistentes e protetores ao desgaste: fornecem revestimentos ultra-duros e resistentes ao desgaste-para ferramentas e componentes mecânicos, prolongando significativamente sua vida útil; também encontra aplicação no campo da proteção blindada.
Aeroespacial: Usado para revestimentos de superfície em componentes necessários para suportar temperaturas extremas e ambientes agressivos.
Detecção de energia nuclear e nêutrons: serve como um material absorvente-de nêutrons ideal para uso em reatores nucleares; filmes finos de carboneto de boro de grande-área e alto-desempenho- foram aplicados com sucesso em detectores de nêutrons, alcançando a localização de tecnologias e dispositivos importantes.
Semicondutores e Filmes Finos Funcionais: Deposição de filmes finos funcionais em vários substratos, incluindo vidro, metais e plásticos.
Especificações do alvo de pulverização catódica B4C
| Tipo de material | Carboneto de Boro |
| Símbolo | B4C |
| Ponto de fusão (grau) | 2,350 |
| Densidade Teórica (g/cc) | 2.52 |
| Razão Z | 1.00 |
| Pulverização | RF |
| Densidade máxima de potência (Watts/polegada quadrada) |
20 |
| Tipo de vínculo | Índio |
| Comentários | Semelhante ao cromo. |
Controle de qualidade e teste de alvo de pulverização catódica B4C

Perguntas frequentes para alvo de pulverização catódica B4C
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