Alvo de pulverização catódica B4C
Alvo de pulverização catódica B4C

Alvo de pulverização catódica B4C

Utilizando matérias-primas de carboneto de boro de alta-pureza, este produto apresenta dureza excepcional e estabilidade térmica robusta, tornando-o ideal para aplicações na fabricação de semicondutores, revestimentos ópticos e fabricação de filmes-resistentes ao desgaste. Oferece qualidade estável e composição uniforme, melhorando efetivamente a eficiência do revestimento e a longevidade do produto. Especificações personalizadas estão disponíveis para atender a diversos requisitos de processo.
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Descrição do alvo de pulverização catódica B4C

 

Os alvos de pulverização catódica de carboneto de boro (B4C) são alvos cerâmicos de alto-desempenho utilizados principalmente em processos de deposição física de vapor (PVD)-especificamente na pulverização catódica de magnetron-para depositar filmes finos de carboneto de boro nas superfícies do substrato. Distinguidos por suas propriedades físico-químicas excepcionais, esses filmes finos encontram aplicação significativa em vários setores de alta-tecnologia. Os alvos de carboneto de boro são normalmente produzidos em formato de disco circular, com diâmetros comuns incluindo 50,8 mm e 76,2 mm, e espessuras disponíveis variando de 3 mm a 6 mm. Os níveis de pureza abrangem um espectro de 99% até graus 4N de alta-pureza, atendendo aos diversos requisitos de pesquisas científicas e aplicações industriais. Além disso, serviços como ligação a placas de suporte de cobre estão disponíveis para facilitar a instalação e o uso.

 

Características do alvo de pulverização catódica B4C

 

Dureza excepcional: Sua dureza perde apenas para a do diamante e do nitreto cúbico de boro, o que lhe valeu o apelido de “Diamante Negro”.
Excelente resistência-a altas temperaturas: com ponto de fusão atingindo aproximadamente 2.350 graus, mantém desempenho estável em ambientes-de alta temperatura.
Boa estabilidade química: É quimicamente inerte à maioria dos ácidos, mas se dissolve em álcalis fundidos.
Seção transversal-de baixa densidade e alta absorção de nêutrons: com densidade de aproximadamente 2,52 g/cm³, absorve efetivamente nêutrons sem gerar isótopos radioativos, o que o torna de importância significativa na indústria nuclear.
Requisitos de alta pureza: para uso na preparação de materiais alvo de alto-desempenho, o pó de carboneto de boro normalmente requer um nível de pureza superior a 99%; esse controle rigoroso sobre impurezas-como oxigênio, ferro e silício-é essencial para garantir o desempenho do produto final.

 

Aplicações do alvo de pulverização catódica B4C

 

Revestimentos-resistentes e protetores ao desgaste: fornecem revestimentos ultra-duros e resistentes ao desgaste-para ferramentas e componentes mecânicos, prolongando significativamente sua vida útil; também encontra aplicação no campo da proteção blindada.
Aeroespacial: Usado para revestimentos de superfície em componentes necessários para suportar temperaturas extremas e ambientes agressivos.
Detecção de energia nuclear e nêutrons: serve como um material absorvente-de nêutrons ideal para uso em reatores nucleares; filmes finos de carboneto de boro de grande-área e alto-desempenho- foram aplicados com sucesso em detectores de nêutrons, alcançando a localização de tecnologias e dispositivos importantes.
Semicondutores e Filmes Finos Funcionais: Deposição de filmes finos funcionais em vários substratos, incluindo vidro, metais e plásticos.

 

Especificações do alvo de pulverização catódica B4C

 

Tipo de material Carboneto de Boro
Símbolo B4C
Ponto de fusão (grau) 2,350
Densidade Teórica (g/cc) 2.52
Razão Z 1.00
Pulverização RF
Densidade máxima de potência
(Watts/polegada quadrada)
20
Tipo de vínculo Índio
Comentários Semelhante ao cromo.

 

Controle de qualidade e teste de alvo de pulverização catódica B4C

 

1QC

 

Perguntas frequentes para alvo de pulverização catódica B4C

 

Você é um fábrica ou afabricante?
R: Sim, somos uma fábrica B4C Sputtering Target, mas geralmente usamos nossa empresa comercial para lidar com negócios no exterior. Será mais conveniente receber a remessa e providenciar o envio.

Qual é o método de entrega?
R: Geralmente, enviamos o alvo de pulverização catódica B4C por UPS, DHL ou FedEx. Além disso, podemos enviar por via marítima para um porto marítimo ou por via aérea para o aeroporto mais próximo.

Por que seu alvo de sputtering B4C é tão econômico-?
R: Eliminamos os intermediários no processo de fabricação-de ponta a-e obtemos matéria-prima diretamente de sua fonte.

Você faz inspeção de qualidade pontual deprodutos?
R: Inspeção 100% completa com certeza. Todos os alvos de pulverização catódica B4C não qualificados são descartados.

Como você garante seu prazo de entrega?
R: Desde a preparação do material até a usinagem e finalmente até uma inspeção completa. Cada etapa da produção é rigorosamente monitorada e controlada para fornecer um prazo de entrega preciso.

Qual é o MOQ do alvo de pulverização catódica B4C?
R: Depende da quantidade de alvo de pulverização catódica B4C; geralmente, sem limite de MOQ.

Como pagaros produtos?
R: Uma transferência bancária (T/T) será aceitável.

Qual é o prazo de entrega?
R: Cerca de 7 a 20 dias, o que depende da quantidade e produção do Alvo de Sputtering B4C.

Que tipo de pacote é esse?
R: Geralmente, usamos uma caixa de papelão ou madeira compensada com material protetor dentro para garantir a segurança do alvo de pulverização catódica B4C.

Qual é o prazo de entrega?
R: Do pedido feito até o recebimento da carga levará cerca de 10 a 25 dias.

 

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