Descrição dos produtos
Zircônio (Zr) é um metal prateado com uma densidade de 6,52 g/cm³. Zr tem uma pequena seção transversal de absorção de nêutrons e um ponto de fusão relativamente alto (1855 graus ou 3371 graus F), tornando o zircônio um excelente material para barras de energia nuclear. Esponja de zircônio e barras de cristal são as matérias-primas para fazer alvos de pulverização catódica. Embora a esponja de Zr seja barata e tenha baixa pureza, ela contém um alto teor de oxigênio. Barras de cristal de zircônio têm um custo e pureza mais altos, tornando-as materiais ideais para alvos de pulverização catódica.
A deposição de filme fino (revestimento) é o processo de formação e deposição de revestimentos de filme fino em materiais de substrato que podem ser usados para alterar ou melhorar certos elementos das propriedades do substrato. É uma etapa importante da fabricação na produção de muitos dispositivos e produtos optoeletrônicos, de estado sólido e médicos. O alvo de pulverização catódica de zircônio é o alvo mais comumente usado no processo de revestimento. Ele pode revestir o substrato com revestimento resistente ao desgaste, revestimento reflexivo, revestimento condutor, revestimento resistente à corrosão ou revestimento decorativo. Quanto maior a pureza do material, maior a adesão, resistência ao desgaste e vida útil do revestimento, e mais forte o efeito protetor no produto. O alvo de pulverização catódica de zircônio tem as vantagens de baixa densidade, alta resistência específica, resistência à corrosão, resistência a altas temperaturas, resistência ao desgaste, excelente desempenho de processamento, não tóxico, não magnético, pequena seção transversal de absorção de nêutrons térmicos, longa vida útil, etc., e pode ser amplamente utilizado Adequado para processamento de revestimento de produtos eletrônicos, lasers de fibra, displays de LED, microscópios, lasers semicondutores e outros instrumentos de precisão. Se necessário, sinta-se à vontade para entrar em contato conosco por e-mail.
Tanto o Zr quanto o Hf podem ser aplicados em indústrias nucleares. No entanto, eles têm propriedades diferentes na captura de nêutrons. Embora tenham muitas propriedades semelhantes, eles precisam ser separados usando o método de extração líquida ou destilação de sal fundido. Nós fornecemos dois graus de alvos de zircônio de alta pureza: baixo háfnio (250ppm, ou 0,025%) e alto háfnio.
Propriedades do alvo de pulverização catódica de zircônio
|
Material |
Barra de cristal Zr |
|
Pureza |
99.95% |
|
Número CAS |
7440-67-7 |
|
Cor |
Prata |
|
Forma |
Diâmetro: 20~40mm |
Especificações do alvo de pulverização catódica de zircônio
|
B |
0.07 |
Você |
36 |
Mês |
3.7 |
|
F |
1.7 |
V |
0.13 |
Direito |
<0.5 |
|
N / D |
0.3 |
Cr |
3.4 |
Pd |
<5 |
|
mg |
0.09 |
homem |
0.2 |
Em |
<0.05 |
|
Todos |
48 |
Fé |
51 |
Sn |
16 |
|
Si |
35 |
Co |
0.032 |
Sb |
<0.5 |
|
P |
0.35 |
Não |
3.3 |
Te |
<0.5 |
|
S |
16 |
Com |
0.16 |
I |
<0.5 |
|
Cl |
1.6 |
Zinco |
0.28 |
O |
<0.013 |
|
K |
0.25 |
Br |
0.039 |
Este |
0.021 |
|
Ca |
0.33 |
Sr |
0.009 |
Pr |
0.036 |
|
Esc |
0.6 |
Nota |
1.7 |
E |
<0.05 |
|
Ga |
0.1 |
Gê |
<0.05 |
Pequeno |
<0.05 |
|
Como |
<0.05 |
Se |
<0.05 |
Ta |
0.66 |
|
W |
1.3 |
Ré |
<0.05 |
SO |
<0.05 |
|
Ir |
<0.05 |
Pt |
<0.05 |
Ou |
<0.05 |
|
Pb |
0.96 |
Bi |
0.28 |
U |
1.1 |
* Conteúdo de C, N e O não está disponível
* As concentrações de outros elementos metálicos são muito baixas para serem determinadas.
Pacote
Nossos alvos de pulverização catódica de zircônio são manuseados com cuidado para evitar danos durante o armazenamento e o transporte e preservar a qualidade dos nossos produtos em suas condições originais.
Tag: alvo de zircônio, fornecedores de alvo de zircônio da China, fábrica
