Descrição dos produtos
Implantação iônica é um tipo de modificação de superfície de material de alta tecnologia que tem florescido e amplamente utilizado internacionalmente nas últimas três décadas, realizando a otimização das propriedades de superfície de materiais ou pode obter algumas novas propriedades excelentes. Devido às características únicas e excepcionais desta alta tecnologia, é uma tecnologia muito importante na fabricação moderna de circuitos integrados. Ela usa máquina de implantação iônica para realizar a dopagem de semicondutores e alterar a condutividade e a estrutura do transistor do semicondutor.
O processo de processamento de dispositivos de tungstênio de alta precisão para implantação de íons semicondutores é pó de tungstênio → prensagem → sinterização → laminação → tratamento térmico de produtos acabados → corte de fios → usinagem.
Características
A pureza do guia de ondas de molibdênio é superior a 99,95%;
Sua densidade é superior a 10,2g/cm³;
Usinado com precisão e com excelente rugosidade superficial;
O guia de ondas de molibdênio é de alta resistência ao desgaste.
Indústria de aplicação
Indústria de materiais semicondutores
Indústria de transporte marítimo
Indústria óptica e optoeletrônica
Indústria aeroespacial
Adequado para peças de implantação
Câmaras (grafite, tungstênio, molibdênio e ligas)
Filamentos (tungstênio e ligas de tungstênio)
Lâminas (grafite, tungstênio, molibdênio e ligas)
Suportes (tungstênio, molibdênio e ligas)
Cátodos (tungstênio, molibdênio e ligas)
Peças de reposição (grafite, tungstênio, molibdênio e ligas, cerâmica, aço)
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