Al-Ti Alloy Sputtering Alvo
Al-Ti Alloy Sputtering Alvo

Al-Ti Alloy Sputtering Alvo

O alvo de pulverização da liga al-Ti é frequentemente fabricado pelo método de fabricação de fundição a vácuo. Possui uma série de excelentes propriedades de titânio e zircônio, como alta dureza, alta resistência à temperatura, alta resistência mecânica, boa biofilicidade, excelente resistência à corrosão, forte resistência ao impacto do arco e trituração, durável, etc.
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Al-Ti Alloy Sputtering Alvo

 

O alvo de pulverização refere -se à matéria -prima usada no processo de deposição de pulverização. Refere-se ao processo em que os átomos são ejetados do alvo sólido devido ao bombardeio de partículas de alta energia do alvo. Sua principal função é depositar um filme fino no objeto.

O alvo de pulverização da liga al-Ti é frequentemente fabricado pelo método de fabricação de fundição a vácuo. Possui uma série de excelentes propriedades de titânio e zircônio, como alta dureza, alta resistência à temperatura, alta resistência mecânica, boa biofilicidade, excelente resistência à corrosão, forte resistência ao impacto do arco e trituração, durável, etc.

O alvo de pulverização da liga al-Ti pode ser amplamente utilizado na tecnologia de revestimento a vácuo usando PVD e CVD como os principais processos. Ele pode revestir produtos eletrônicos, dispositivos eletrônicos, dispositivos de exibição blindados e dispositivos de circuito integrado para melhorar a qualidade da visualização e a vida útil do serviço. Também pode ser usado para revestir ferramentas, moldes e vidro para atender às necessidades da indústria de manufatura global para ferramentas de alto desempenho e economia de energia e vidro ecológico.

 

Especificaiton de alvo de liga al-ti

Material

Ti -75 al, ti -70 al, ti -67 al, ti -60 al, ti -50 al, ti -30 al, ti {-20 al

Pureza

Maior ou igual a 99,7%

Diâmetro

Personalizado

Grossura

Personalizado

Densidade

3. 1-4. 3g/cm3

Superfície

Polido, brilhante, limpeza química, óxido preto, etc.

Forma

Redondo

Entregar tempo

25 dias

Padrão

ASTM

 

Imagem do alvo da alia al-ti

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