Alvo de pulverização catódica de óxido de índio (In2O3)

O óxido de índio é um óxido com a fórmula molecular In2O3. O produto puro é um pó amorfo branco ou amarelo claro, que se torna marrom avermelhado quando aquecido. O óxido de índio é um novo material funcional semicondutor transparente do tipo n com uma ampla lacuna de banda, baixa resistividade e alta atividade catalítica. Tem sido amplamente utilizado no campo optoeletrônico, sensores de gás e catalisadores. Quando o tamanho da partícula de óxido de índio atinge o nível nanométrico, além das funções acima, ele também tem o efeito de superfície de nanomateriais, efeito de tamanho quântico, efeito de tamanho pequeno e efeito de tunelamento macroquântico.

1. Usados ​​como reagentes e materiais espectralmente puros para componentes eletrônicos, etc.

2. Usado para revestimentos protetores em espelhos refletivos de metal, filmes semicondutores de telas optoeletrônicas e também usado para fabricar sais de índio e vidro.

Uma matéria-prima frequentemente usada em telas sensíveis ao toque resistivas, principalmente para telas fluorescentes, vidro, cerâmica, reagentes químicos, etc. Além disso, é amplamente usada em campos tradicionais, como vidro colorido, cerâmica, inibidores de corrosão de mercúrio para baterias alcalinas de manganês e reagentes químicos. Nos últimos anos, tem sido amplamente usada em campos de alta tecnologia, como a indústria optoeletrônica e campos militares, especialmente para processamento em alvos de óxido de índio e estanho (ITO), fabricação de eletrodos transparentes e materiais refletores de calor transparentes, e usada na produção de telas planas de cristal líquido e desembaçadores.

1. Propriedades: Pó amorfo branco ou amarelo claro, que se transforma em marrom avermelhado quando aquecido.
2. Densidade (g/mL, 25ºC): 7,179
3. Ponto de fusão (ºC): 2000
4. Pressão de vapor (mmHg, 25ºC):<0.01
5. Solubilidade: Insolúvel em água, solúvel em ácidos inorgânicos quentes

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